20549 סמינר בטכנולוגיות מיקרואלקטרוניקה

20549 סמינר בטכנולוגיות מיקרואלקטרוניקה

3 נקודות זכות ברמה מתקדמת סמינריונית

שיוך: מדעים / מדעי הטבע והחיים / פיסיקה / אלקטרוניקה

שיוך נוסף: מדעים / מדעי הטבע והחיים / כימיה

תנאי קבלה: 36 נקודות זכות עבור קורסים קודמים במדעים, ובכללם הקורסים מוליכים למחצה, התקני מוליכים למחצה ומיקרואלקטרוניקה, חשבון דיפרנציאלי ואינטגרלי א (‏או חשבון אינפיניטסימלי 1‎)‏, וכן עמידה בדרישות האנגלית ובדרישות ההדרכה הביבליוגרפית בספרייה. ידע קודם מומלץ: הקורסים כימיה כללית,1 כימיה אי-אורגנית או פרקים בפיסיקה מודרנית.

פיתוח הקורס: פרופ' גדי גולן, פרופ' יורם קירש

מטרות הקורס

• הכרת תהליכי עיבוד במיקרואלקטרוניקה.

• הכרת חומרים במיקרואלקטרוניקה.

• הכרת תופעות פיסיקליות וכימיות בתחום השכבות הדקות.

נושאי הלימוד

• מערכות וואקום – סוגי טכנולוגיות הוואקום הנחוצות לתעשיית המיקרואלקטרוניקה.

• פוטוליטוגרפיה – כניקות צילום ופיתוח של פרישות ממוזערות על פני גבישי מצע.

• טכניקות תיב"ם – תכנון וייצור בעזרת מחשב של פרישות טרנזיסטורים על-פני מצעי מל"מ.

• הפעלת מערכת נידוף (‏תהליך מלא‎)‏, ויצירת שכבות מתכת – שכבות דקות למיקרואלקטרוניקה.

• הפעלת מערכת התזה (‏תהליך מלא‎)‏, ויצירת שכבות מתכת. שכבות דקות למיקרואלקטרוניקה.

• גידול גביש ואפיטקסיה – טכניקות גידול גבישים בשכבות דקות (‏אפיטקסיה‎)‏ או בצורת גלילים.

• תהליכי חמצון של שכבות דקות ליצירת מבודדים.

• דיפוזיה והשתלת יונים – סימום מצעי מל"מ על ידי סממים שונים מן הטבלה המחזורית.

• איכול – טכניקות "קידוח" ו"ניסור" בשכבות דקות.

נושאים לעבודות הסמינריוניות: טכנולוגיות נידוף חומני; אפיטקסיית קרן אלקטרונים – MBE; התזה יונית –IONIC SPUTTERING; נידוף כימי בפזה גזית; נידוף כימי בפזה נוזלית; השתלת יונים; חמצון חומני; אנודיזציה אלקטרוליטית; נידופי חיזור; ציפוי טבילה; אפיטקסיה בפזה נוזלית; קריטריונים לבחירת שכבות דקות לפי יישומם; אפיטקסיית סיליקון באדים כימיים; שיקולי מיכשור בעת ביצוע אפיטקסיה; פגמים בשכבות אפיטקסיה; הערכת תוצאות ואיסוף נתונים אוטומטי.

---

1 או הקורס כימיה כללית (‏20477, 20487‎)‏, שאינו מוצע עוד.