קורסים שאינם מקנים נקודות זכות
20549 סמינר בטכנולוגיות מיקרואלקטרוניקה
20549 סמינר בטכנולוגיות מיקרואלקטרוניקה1
3 נקודות זכות ברמה מתקדמת סמינריונית
שיוך: מדעים / מדעי הטבע והחיים / פיסיקה / אלקטרוניקה
שיוך נוסף: מדעים / מדעי הטבע והחיים / כימיה
תנאי קבלה: 36 נקודות זכות עבור קורסים קודמים במדעים, ובכללם הקורסים מוליכים למחצה, התקני מוליכים למחצה ומיקרואלקטרוניקה, חשבון דיפרנציאלי ואינטגרלי א (או חשבון אינפיניטסימלי 1), וכן עמידה בדרישות האנגלית ובדרישות ההדרכה הביבליוגרפית בספרייה. ידע קודם מומלץ: הקורסים כימיה כללית,2 כימיה אי-אורגנית או פרקים בפיסיקה מודרנית.
פיתוח הקורס: פרופ' גדי גולן, פרופ' יורם קירש
מטרות הקורס
-
הכרת תהליכי עיבוד במיקרואלקטרוניקה.
-
הכרת חומרים במיקרואלקטרוניקה.
-
הכרת תופעות פיסיקליות וכימיות בתחום השכבות הדקות.
נושאי הלימוד
-
מערכות וואקום – סוגי טכנולוגיות הוואקום הנחוצות לתעשיית המיקרואלקטרוניקה.
-
פוטוליטוגרפיה – טכניקות צילום ופיתוח של פרישות ממוזערות על פני גבישי מצע.
-
טכניקות תיב"ם – תכנון וייצור בעזרת מחשב של פרישות טרנזיסטורים על-פני מצעי מל"מ.
-
הפעלת מערכת נידוף (תהליך מלא), ויצירת שכבות מתכת – שכבות דקות למיקרואלקטרוניקה.
-
הפעלת מערכת התזה (תהליך מלא), ויצירת שכבות מתכת. שכבות דקות למיקרואלקטרוניקה.
-
גידול גביש ואפיטקסיה – טכניקות גידול גבישים בשכבות דקות (אפיטקסיה) או בצורת גלילים.
-
תהליכי חמצון של שכבות דקות ליצירת מבודדים.
-
דיפוזיה והשתלת יונים – סימום מצעי מל"מ על ידי סממים שונים מן הטבלה המחזורית.
-
איכול – טכניקות "קידוח" ו"ניסור" בשכבות דקות.
נושאים לעבודות הסמינריוניות: טכנולוגיות נידוף חומני; אפיטקסיית קרן אלקטרונים – MBE; התזה יונית – IONIC SPUTTERING; נידוף כימי בפזה גזית; נידוף כימי בפזה נוזלית; השתלת יונים; חמצון חומני; אנודיזציה אלקטרוליטית; נידופי חיזור; ציפוי טבילה; אפיטקסיה בפזה נוזלית; קריטריונים לבחירת שכבות דקות לפי יישומם; אפיטקסיית סיליקון באדים כימיים; שיקולי מיכשור בעת ביצוע אפיטקסיה; פגמים בשכבות אפיטקסיה; הערכת תוצאות ואיסוף נתונים אוטומטי.
2 או הקורסים כימיה כללית (20477, 20487), שאינם מוצעים עוד.